15:00
А. Г. Черникова (МФТИ)
Структурные и электрофизические свойства аморфных HfxAl1-xOy и сегнетоэлектрических
HfxLa1-xOy, HfxZr1-xOy тонкопленочных оксидов, формируемых методом атомно-слоевого осаждения
(По материалам диссертации на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук)
2016-12-06