Патент на изобретение RU 2785367 C1
«ВЧ-источник плазмы с планарным индуктором для обработки полупроводниковых пластин диаметром до 600 мм»
Аверкин С.Н., Антипов А.П., Лукичев В.Ф., Мяконьких А.В., Руденко К.В., Рылов А.А., Семин Ю.Ф.
Приоритет от 07 апреля 2022 г.
Зарегистрировано в Госреестре РФ 06.12.2022