Авторы из ФТИАН им. К.А. Валиева РАН: В. О. Кузьменко, А. В. Мяконьких, К. В. Руденко
Результат получен совместно с Ивановским Государственным Химико-Технологическим Университетом (А. М. Ефремов)
Применение диэлектриков с ультранизкой диэлектрической проницаемостью в системе металлизации современных интегральных схем требует низкоповреждающего процесса травления диэлектрика для сохранения низкого значения диэлектрической проницаемости в процессе создания структуры межсоединений. В представленной работе работе изучен подход к реализации низкоповреждающего процесса травления в индуктивно-связанной плазме фторбромуглеродных газов, предложеный ранее [1], в сравнении с плазмой CF4. Были исследованы параметры фторбромуглеродных плазм в различных установках с реакторами с индуктивно-связанной плазмой [2], [3]. С помощью зонда Ленгмюра были определены значения электронных температур, концентраций электронов и положительных ионов в типичных для процесса травления условиях. Воздействие радикалов фтора обеспечивают химический механизм травления, но ведет к деградации кремнийсодержащих диэлектрических плёнок, поэтому концентрации радикалов фтора были определены в сравнении с концентрациями радикалов брома. Для определения концентраций радикалов использовался метод оптической эмиссионной актинометрии. Экспериментальные данные были подтверждены моделированием плазмы CF4.
Такая работа для ICP плазмы газов CBrF3 и C2Br2F4 была выполнена первые.
Концентрации атомных радикалов фтора и брома (a, b), параметры, характеризующие баланс между физическим и химическим механизмами травления (c, d) в зависимости от давления в реакторе. Пунктирная линия на Рис. a) соответствует предсказанным моделью значениям для плазмы CF4
- Rezvanov, A. V. Miakonkikh, A. S. Vishnevskiy, K. V. Rudenko and M. R. Baklanov, Cryogenic etching of porous low-k dielectrics in CF3Br and CF4 plasmas, J. Vac. Sci. Technol. B 35(2), 021204. 2017
- O. Kuzmenko and A. V. Miakonkikh, Low-Pressure Inductively Coupled CF3Br Plasma Studied by the Langmuir Probe and Optical Emission Spectroscopy Techniques, Technical Physics Letters Vol. 47, No. 1, pp. 99–102. 2021
- Miakonkikh, V. Kuzmenko, A. Efremov and K. Rudenko, A comparison of CF4, CBrF3 and C2Br2F4 plasmas: Physical parameters and densities of atomic species, Vacuum Vol. 200, 110991. 2022