Основные направления исследований
Руководитель лаборатории — с.н.с., к.ф-м.н. Мяконьких А.В.
+7(499)129-55-08
miakonkikh@ftian.ru
Основные направления исследований
- Исследование процесса плазмостимулированного атомно-слоевого осаждения диэлектриков и металлов
- Исследование плазменного травления полупроводников и диэлектриков
- Исследования технологических подходов к формированию интегральных планарных и тренчевых конденсаторов высокой емкости
- Исследованы возможности выполнения атомно-слоевое травления диэлектриков с высокой диэлектрической проницаемостью в ICP установке плазменного травления
- Предложен способ циклического анизотропного травления глубоких тренчей в кремнии в цикле «нитридизация-травление»
- Исследованы возможности конформного осаждения диэлектриков и металлов в тренчевые высокоаспектные структуры
- Заявка: 2022129841, от 17.11.2022. Способ анизотропного плазменного травления кремниевых микроструктур в циклическом процессе нитридизация-травление.
- Гос. Задание #FFNN-2022-0020 “Фундаментальные и прикладные исследования технологий формирования функциональных диэлектриков в микроструктурах интегральных схем”2022-2024 годы
- Исследование возможностей атомно-слоевого травления структур микро- и наноэлектроники (РФФИ)
- Исследование возможностей криогенного атомно-слоевого травления пористых диэлектриков с ультранизкой диэлектрической проницаемостью (РНФ)
- V. Kuzmenko, Y. Lebedinskij, A. Miakonkikh, K. Rudenko//Selective atomic layer etching of Al2O3, AlNx and HfO2 in conventional ICP etching tool // Vacuum 207 (2023) 111585 doi.org/10.1016/j.vacuum.2022.111585
- M. Tarkov, F. Tikhonenko, V. Popov, V. Antonov, A. Miakonkikh and K. Rudenko // Ferroelectric Devices for Content-Addressable Memory // Nanomaterials 2022, 12, 4488 https://doi.org/10.3390/nano12244488