Эффекты пространственного распределения дефектов и примесных атомов в слоистых структурах на основе Si при ионной имплантации

15:00
Г. В. Баранов (АО «НИИМЭ» и МФТИ (ГУ))
Эффекты пространственного распределения дефектов и примесных атомов в слоистых структурах на основе Si при ионной имплантации
(По материалам диссертации на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук)

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *

Этот сайт использует Akismet для борьбы со спамом. Узнайте, как обрабатываются ваши данные комментариев.