artem.yf–ftian@mail.ruЯрославль, Россия.
Образование
|
ЯрГУ им. П.Г. Демидова, физический факультет Специальность: Микроэлектроника и полупроводниковые приборы. Квалификация: физик-микроэлектронщик. Область обучения: разработка и производство интегральных схем, исследование полупроводников и технологии микрообработки. Диплом специалиста.
|
2009 – 2014 |
|
ЯрГУ им. П.Г. Демидова, физический факультет Направление: Физика и астрономия; Физика конденсированного состояния. Квалификация: исследователь; преподаватель-исследователь. Область обучения: тонкие металлические пленки, внутренние механические напряжения, взаимодействие ионов с поверхностью, МЭМС (микроэлектромеханические системы). Диплом об окончании аспирантуры. |
2014 – 2018 |
Опыт работы
|
ФТИАН им. К.А. Валиева, Ярославский филиал Электроник Стажер-исследователь Младший научный сотрудник Научный сотрудник
ЯрГУ им. П.Г. Демидова, физический факультет Старший преподаватель |
2013 – 2014 2014 – 2017 2017 – 2020 2020 – 2022
2022 – 2022 |
Навыки
ПО:
MS Office, Mathcad, ComsolMultiphysics, LAMMPS.
Иностранные языки:
English – Pre-Intermediate.
Список научных произведений по разделам
(ГОСТ Р 55385-2012 Интеллектуальная собственность. Научные произведения.):
|
Публикации в рецензируемых журналах |
||||
|
№ |
Авторы, название, выходные данные. |
Индексация |
||
|
РИНЦ |
Scopus* |
WoS* |
||
|
1. |
Бабушкин А.С. (ЯФ ФТИАН им. К.А. Валиева РАН), Куприянов А.В. Исследование формирования механических напряжений в ходе роста поликристаллической пленки Cr методом молекулярной динамики // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, 2022, № 11, с. 39–48. |
Да |
Да |
Да |
|
2. |
Babushkin A. The effect of low-energy ion bombardment on residual stress in thin metal films due to the generation of surface defects and their migration to the grain boundary. Journal of Physics: Conference Series. 2020. V.1695, №1, P. 012194 |
Да |
Да |
|
|
3. |
Babushkin A., Selyukov R., Amirov I. Effect of Ar ion-plasma treatment on residual stress in thin Cr films. Proc. of SPIE, 2019. V. 11022. P. 1102223-1. |
Да |
Да |
Да |
|
4. |
Бабушкин А.С., Уваров И.В., Амиров И.И. Влияние низкоэнергетической ионно-плазменной обработки на остаточные напряжения в тонких пленках хрома. Журнал технической физики. 2018. Т. 88. №12. С. 1845. |
Да |
Да |
Да |
|
5. |
Babushkin A.S., Uvarov I.V., Amirov I.I. Influence of ion-plasma treatment on residual stress in the microcantilever. Journal of Physics: Conference Series. 2016. V. 741. P. 012208. |
Да |
Да |
|
|
6. |
А.C. Бабушкин, И.В. Уваров, И.И. Амиров, Влияние электростатического метода возбуждения колебаний на резонансные свойства микрокантилеверов. Вестник ЯрГУ, Серия Естественные и технические науки, 2013, No4, 22–29. |
Да |
|
|
|
|
Итого: |
6 |
5 |
3 |
|
|
|
|
|
|
|
* Статью, имеющую переводную версию, считать одной статьей. Русскоязычные статьи, индексируемые в РИНЦ, могут иметь переводную версию, индексируемую в Scopus и/или WoS. В этом случае в таблице нужно указывать и РИНЦ, и Scopus и/или WoS. |
||||
|
Монографии и главы в монографиях |
||||
|
1. |
Бабушкин А.С., Селюков Р.В. Влияние ионно-плазменной обработки на остаточные механические напряжения в тонких пленках хрома. Труды ФТИАН, том 28, 2019, 152 с. ISBN 978-5-02-040185-3 |
|||