- Разработка новых типов широкоапертурных источников плотной низкотемпературной плазмы низкого давления и источников ионов для технологических применений в микро- и наноэлектронике;
- Разработка экспериментального технологического оборудования для плазмостимулированного осаждения тонких пленок, анизотропного плазмохимического травления, плазменной очистки поверхности, плазменно-иммерсионной ионной имплантации, ионно-пучковых технологий;
- Разработка автоматизированных методов и средств мониторинга плазменных технологических процессов и детекторов момента их окончания;
- Разработка конструкций, технологических маршрутов и технологий изготовления элементов микро- и наноэлектромеханики
- Разработка алгоритмов и программ моделирования технологических процессов и приборов микро- и наноэлектроники;
2021-10-11