Моделирование фотолитографических процессов: от суб 0,5 микронных к нанометровым размерам

Разработаны и внедрены комплексные модели основных фотолитографических процессов. На их основе созданы многофункциональные пакеты прикладных программ мирового уровня, эффективно используемых для дальнейшего исследования, оптимизации, контроля, диагностики и управления процессов фотолитографической технологии.

Моделирование фотолитографических процессов: от суб 0,5 микронных к нанометровым размерам


Ивин В.В., Махвиладзе Т.М., Валиев К.А. Теоретическое рассмотрение вопросов выбора оптимальной формы источника в оптической нанолитографии. Микроэлектроника. 2004. Т. 33. №3. С. 163-174.

Ивин В.В., Махвиладзе Т.М., Валиев К.А. Анализ практических применений внеосевых источников в оптическойнанолитографии. Микроэлектроника. 2004. Т. 33. №4. С. 259-272.

 

Leave a Reply

Your email address will not be published.

This site uses Akismet to reduce spam. Learn how your comment data is processed.