Эффекты пространственного распределения дефектов и примесных атомов в слоистых структурах на основе Si при ионной имплантации

15:00
Г. В. Баранов (АО «НИИМЭ» и МФТИ (ГУ))
Эффекты пространственного распределения дефектов и примесных атомов в слоистых структурах на основе Si при ионной имплантации
(По материалам диссертации на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук)

Leave a Reply

Your email address will not be published.

This site uses Akismet to reduce spam. Learn how your comment data is processed.